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单晶硅主要用于制作半导体元件。用途：制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等。单晶硅的制法通常是先制得多晶硅或无定形硅，回收太阳能单晶硅厂，然后用直拉法或悬浮区熔法从熔体中生长出棒状单晶硅。

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多晶硅硅料回收后的清洗方法，将多晶硅硅料置于混合酸液中进行避光浸泡1分钟～10分钟，混合酸液温度为30℃～35℃，保定回收太阳能单晶硅，后捞取，回收太阳能单晶硅地址，用纯水冲洗，再经超声冲洗、压缩空气鼓泡后烘干；

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